第690章 芯片战忽局（第2页）

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一是浸润式光刻技术，由此对应着duV光刻机。

一是深紫外线光刻机技术，由此对应着euV光刻机。

九十年代，干式光刻机技术大行其道，其芯片生产工艺达到了65nm，接下来的目标是向着45nm前进。

然而干式光刻机使用的是干式介质，采用的光线有一大堆问题，非常难以解决。

这时候某电的林本坚就提出了一个观点，即用水来充当介质。

经过试验，他现这一思路是可行的。

彼时的光刻机巨头尼康、佳能。

这些大厂早就在干式光刻机上投入了几十亿美元研究，投入太多，无法改弦更张。

而asmL因为是一家小厂，秉承着光脚不怕穿鞋的理念，和某电合力研浸润式光刻机了。

最后就是asmL与台积电研浸润式光刻机成功了。

这就是duV光刻机。

经过了多年的展，目前，duV光刻机已经可以满足绝大多数需求，可以覆盖7nm及以上制程需求。

到了这时候，学者们的普遍观点是，euV将是下一代光刻技术。

euV光刻机采用波长为1o-14纳米的极紫外光作为光源，可使曝光波长一下子降到13。5nm，能满足1onm以下的晶圆制造，并且还可以向5nm、3nm继续延伸。

另外值得一提，早在2o世纪8o年代，大约是1985年，就有学者开始研究euV光刻技术。

只可惜技术一直达不到要求，而且要消耗大量的资金，因此这一技术展缓慢。

直到2o15年，euV光刻机才进入可量产阶段。

“我记得之前看过资料，一台euV光刻机的造价高达65oo万美元，如果初期研究，投入的花销还会更多，所以目前，我应该推进浸润式光刻机的展，这是符合时代潮流的，等通过浸润式光刻机将星火电子厂做大做强后，再来推进euV光刻机的研究。”

“虽然我可以从万界商城中购买到全套技术，但以目前的环境、人才、社会形势，还不到拿出完整浸润式光刻机的时候，还需要等待啊。”

这个世界是复杂的，联动的。

并不是有技术就可以为所欲为。

君不见脚盆鸡在半导体如日中天，却被美爹以非常非常血腥的方式瓜分肢解。

君不见华为前脚遥遥领先，后脚就被美帝无耻打压。

曹卫东对此很警惕。

很快，他就在心里制定了一套方案。

一方面，联合神州科学院，悄然进行浸润式光刻机的研究。

另一方面，提醒国家，以应对西方世界动的舆论战，防止出现自废武功的事情。

“咦，这样的话，我似乎可以成立一个战忽局了，芯片战忽局？”

“什么浸润式光刻机，那只是干式光刻机改而已。。。。。。。”

“什么1onm，就是比常规芯片小一点而已。。。。。。。”

“什么浸润式技术，什么euV光刻技术，干式光刻技术才是未来的王道！”

“美帝，你看我们旁边的脚盆鸡、韩棒子、阿三哥，他们都有狼子野心啊。。。。。。。”

想到这里，曹卫东表情瞬间变得古怪起来。

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